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解析の設定

解析設定は、解析の結果と実行方法に影響する追加のパラメーターです。

Web マップおよび個々のツールの解析設定を更新できます。

Web マップの解析設定の更新

Web マップで解析の環境設定を指定すると、新しいツールを開いたときにマップ レベルの環境設定が継承されます。 特定の環境パラメーターのみが、指定のツールで使用されます。 ツールが使用する環境を確認するには、ツールの参照ページの環境セクションをご参照ください。

Web マップの解析設定を更新するには、次の手順を実行します。

  1. [設定] (明るい背景の) ツールバーで [解析] 解析 をクリックします。
  2. [解析] ウィンドウで、[解析の設定] をクリックします。

    解析設定は、[一般環境][ラスター環境] (ArcGIS Image Server で使用可能) に分類されます。

  3. 必要に応じて、設定を更新します。
  4. [保存] をクリックします。

ツールの環境設定の更新

[環境設定] パラメーター グループでは、ツール ウィンドウで開いているツールの環境を個別に設定できます。 ツールに設定された環境は、Web マップの同じ設定をオーバーライドします。 これらの設定はツールを閉じるまで使用され、ツールを再度開くときに保持されません。 ツールを [履歴] から再度開くと、前回使用したときと同じ環境が再設定されます。

環境設定

環境設定により、出力座標系や処理範囲などの解析の側面が、解析の実行時に制御されます。

出力座標系

[出力座標系] - 解析および結果レイヤーの座標系を指定します。 次のオプションを利用できます。

  • [入力データと同様] (デフォルト) - 解析結果の座標系が入力と同じになります。
  • [座標系の選択] - 解析結果は選択した座標系で表示されます。 [座標系の参照] ボタンをクリックし、座標系のリストから選択します。
  • [レイヤーと同じ] - 解析結果は、Web マップ上の既存のレイヤーと同じ座標系で表示されます。 [レイヤー] ボタンをクリックし、レイヤーのリストから選択します。
注意:

[レイヤーと同じ] が指定されており、選択されたレイヤーの座標系が WKT (Well-Known Text) 文字列で定義されている場合、その座標系はパラメーターに反映されず、解析に使用されません。

処理範囲

[処理範囲] は、解析の実行中に使用する範囲または境界を指定します。 指定の範囲内に完全に含まれているか、指定の範囲と交差しているすべての入力フィーチャまたはセルが解析に使用されます。 次のオプションを利用できます。

  • [全範囲] (デフォルト) - ツールが指定した範囲。
  • [座標] - 範囲は、境界四角形を作成するために指定した座標系によって定義されます。 [現在の表示範囲からの座標の設定] ボタンをクリックし、現在のマップ範囲に基づいて座標を設定します。
  • [現在の表示範囲] - 範囲は、[実行] ボタンをクリックしたときの Web マップの表示範囲によって定義されます。
  • [レイヤー] - 範囲は、Web マップ上の既存のレイヤーの空間範囲によって定義されます。 [レイヤー] ボタンをクリックし、レイヤーのリストから選択します。

スナップ対象ラスター

[スナップ対象ラスター] は、ラスター解析で指定したスナップ対象ラスター レイヤーのセルの配置に一致するように、出力ラスター レイヤーの範囲を調整します。 [レイヤー] ボタンをクリックし、レイヤーのリストから選択します。

セル サイズ

[セル サイズ] は、ラスター解析で出力ラスター レイヤーの作成に使用するセル サイズまたは解像度を指定します。 次のオプションを利用できます。

  • [入力データの最大セル サイズ] (デフォルト) - セル サイズはすべての入力レイヤーの最大のセル サイズによって決定されます。
  • [入力データの最小セル サイズ] - セル サイズはすべての入力レイヤーの最小のセル サイズによって決定されます。
  • [指定] - セル サイズは、カスタム数値を使用して定義されます。
  • [レイヤーから] - セル サイズは Web マップの既存のレイヤーのセル サイズによって決定されます。 [レイヤー] ボタンをクリックし、レイヤーのリストから選択します。

マスク

[マスク] は、ラスター解析の対象エリアの定義に使用するラスター レイヤーまたはフィーチャ レイヤーを指定します。 解析マスク内にあるセルだけが解析処理で考慮されます。 [レイヤー] ボタンをクリックし、レイヤーのリストから選択します。

解析マスクがラスターの場合、値を持つすべてのセルがそのマスクを定義します。 マスク ラスター内の NoData のセルはマスクの外にあると見なされ、解析結果レイヤーでも NoData になります。

解析マスクがフィーチャ レイヤーの場合は、解析の実行時に内部でラスターに変換されます。 そのため、解析に適した [セル サイズ][スナップ対象ラスター] が設定されていることを確認します。

リサンプリング方法

[リサンプリング方法] は、ラスター データセットを変換する際にピクセル値を内挿する方法を指定します。 入力と出力が対応していない場合、ピクセル サイズが変わる場合、データがシフトされる場合、あるいはこれらの状況が複合している場合に、ラスター解析でこの環境を使用します。 次のオプションを利用できます。

  • [最近隣内挿法] - 新しいピクセル値を作成しないため、主に不連続データで使用されます (土地利用分類など)。 この方法は、正確なマルチスペクトル解析のために画像の元の反射率値を保持する場合には、連続データにも適しています。 処理時間の点から見ると最も効率が高い方法ですが、出力画像に若干の位置誤差が生じることがあります。 出力画像は最大で半ピクセル分オフセットされることがあります。これにより、画像の連続性が失われ、見た目がギザギザになる可能性があります。
  • [共一次内挿法] - この方法は連続データに最適です。 共一次内挿法を実行し、4 つの最近隣入力セルの中心の重み付けされた距離に基づいてセルの新しい値を決定します。 出力画像は最近隣内挿法よりも滑らかになりますが、反射率値が変わるため、画像がぼやけたり解像度が低くなったりする可能性があります。
  • [三次たたみ込み内挿法] – 連続データに適しています。 三次たたみ込み内挿法を実行し、16 の最近隣入力セルの中心を通る滑らかなカーブの適合に基づいて、セルの新しい値を算出します。 [最近隣内挿法] のラスターよりもジオメトリ的に歪みが少なく、[共一次内挿法] よりもシャープな結果が生成されます。 場合によっては、入力セル値の範囲から外れた出力ピクセル値が生成されることがあります。 このことが容認できない場合は、代わりに [共一次内挿法] を使用してください。 [三次たたみ込み内挿法] は計算負荷が高く、処理に時間がかかります。

プロセッサー タイプ

解析の実行に使用するプロセッサー タイプを指定します。

次のオプションを利用できます。

  • [自動] - ツールは、無制限にプロセッサー タイプを定義します。 これがデフォルトです。
  • [CPU] - CPU を使用して処理を行います。 CPU 処理は、[並列処理ファクター] による処理と同様に、複数のコアおよびインスタンス間で並列化できます。
  • [GPU] - GPU を使用して処理を行います。 GPU はグラフィックスと画像の処理に有効であり、高度な並列構造をしているため、繰り返し方式で大量のデータを効率よく処理できます。 この環境に対応しているラスター解析ツールは、[並列処理ファクター] による処理と同様に、複数のラスター解析サーバー コンピューターの GPU インスタンス間でそのジョブを分散処理できます。

並列処理ファクター

データの処理に使用できるラスター処理サービス インスタンスの数を指定します。

ツールが [プロセッサー タイプ] 環境に対応していないか、[プロセッサー タイプ] 環境が [CPU] に設定されている場合は、[並列処理ファクター] 環境によってラスター処理 (CPU) サービス インスタンスを制御します。 [プロセッサー タイプ] 環境が [GPU] に設定されている場合は、[並列処理ファクター] 環境によってラスター処理 GPU インスタンスの数を制御します。

[並列処理ファクター] 環境の設定により、ラスター解析イメージ サーバーで 1 つのラスター解析タスクの処理に使用される並列ワーカーの数を要求できます。 ただし、並列処理の総数がラスター処理 (CPU または GPU) サービス インスタンスの最大数を超えると、追加の並列処理がキューに配置されます。

  • 空の文字列 - ツールでは、ラスター処理サービス インスタンスの最大数の 80 パーセントが使用されます。 これがデフォルトです。
  • 整数 - 指定した数のラスター処理サービス インスタンス間で処理を分散します。 使用できる値には、0 と正の整数が含まれます。
  • パーセンテージ - 使用可能なラスター処理サービス インスタンスのうち、指定したパーセンテージのインスタンス間で処理を分散します。 パーセンテージは、パーセント値の後にパーセント記号 (%) を付ける必要があります (例: 50%)。